X熒光光譜儀工作的外部環(huán)境
1、周圍強(qiáng)磁場干擾
設(shè)備合理的工作環(huán)境，要求在沒有電機(jī)、振動(dòng)、電磁、高壓或有高頻率電焊器等電磁干擾的地方安裝，否則會干擾設(shè)備的譜形或造成設(shè)備不能正常工作。
2、環(huán)境溫度，濕度的影響
應(yīng)保持室溫20～25℃為宜，氣溫過高或過低都會影響設(shè)備的正常運(yùn)作，所以配有空調(diào)；空氣中相對濕度應(yīng)保持<70%，濕度過高會造成內(nèi)部高壓單元產(chǎn)生拉弧和放電。
X熒光光譜儀的保養(yǎng)和清潔
1、表面與外殼的清潔。儀器可用微濕的抹布進(jìn)行表面清潔，不可用堿性或酸性清潔劑，應(yīng)使用中性清潔劑。
2、內(nèi)部與探測器的清潔，在清潔過程中，必須注意不要將異物掉入測試窗口中，測試窗口應(yīng)該保持清潔，同時(shí)不能使用硬物接觸測試窗口內(nèi)，防止損傷探測器窗口和X光管窗口。
3、儀器上禁止擺放茶杯，重物等與測試無關(guān)的物品，以免污染或損傷儀器。
X射線熒光分析技術(shù)作為一種快速分析手段，為我國的相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)提供了一種可行的、低成本的、并且是及時(shí)的，檢測、篩選和控制有害元素含量的有效途徑；相對于其他分析方法（例如：發(fā)射光譜、吸收光譜、分光光度計(jì)、色譜質(zhì)譜等），XRF具有無需對樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速、方便、測量成本低等明顯優(yōu)勢，特別適合用于各類相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)作為過程控制和檢測使用。
X射線熒光光譜儀具有重現(xiàn)性好，測量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。
X射線熒光光譜儀的工作原理：
X射線是用高速電子轟擊原子的內(nèi)層電子，使之處于高激發(fā)狀態(tài)，同時(shí)外層的電子躍遷到缺少電子的內(nèi)層軌道。在此過程中會伴隨著以電磁波形式釋放的能量。這種釋放能量的電磁波能量大，波長小，肉眼不可見，稱之為X射線。
X射線熒光的波長是以受激物質(zhì)（待測物質(zhì)）的原子序數(shù)為特征的，原子序數(shù)越大的物質(zhì)波長越短。各種不同的元素都有本身的特征X射線熒光波長，這是用X射線熒光原理的X射線熒光光譜儀進(jìn)行定性分析的依據(jù);而元素受激發(fā)射出來的特征X射線熒光的強(qiáng)度則取決于該元素的含量，這是定量分析的依據(jù)。
X射線熒光光譜儀的主要組成部分是一次X射線源和樣品室、分光晶體和平行光管、檢測器和記錄顯示儀器。一次X射線源用X光管，它產(chǎn)生的一次X射線轟擊樣品表面，使樣品激發(fā)出二次X射線。二次X射線經(jīng)平行光管變成一束平行光以后，投射到與平行光束呈夾角θ的分光晶體晶面上。射線在分光晶體面上的反射角與平行光束的夾角為2θ。分光晶體在分析過程中是回轉(zhuǎn)的，即θ是連續(xù)變化的，θ的變化會使反射光的波長隨之變化，故2θ的具體值是定性分析的依據(jù)。這種變化波長的反射線投射到與分光晶體聯(lián)動(dòng)的檢測器上，檢測器便輸出一個(gè)與平面分光晶體反射線強(qiáng)度成比例的信號，它是定量分析的依據(jù)。記錄顯示儀表的記錄紙移動(dòng)的距離與2θ有關(guān)，所以記錄下來的曲線就是熒光光譜圖，其橫坐標(biāo)是波長，縱坐標(biāo)是光強(qiáng)。分析光譜圖就可以得到定性分析和定量分析結(jié)果。
近紅外光譜儀主要是依靠近紅外光譜原理來進(jìn)來一系列的測量，而近紅外光譜又是由于分子振動(dòng)的非諧振性使分子振動(dòng)從基態(tài)向高能級躍遷時(shí)產(chǎn)生的，記錄的主要是含氫基團(tuán)X－H（X=C、N、O）振動(dòng)的倍頻和合頻吸收。不同團(tuán)（如甲基、亞甲基，苯環(huán)等）或同一基團(tuán)在不同化學(xué)環(huán)境中的近紅外吸收波長與強(qiáng)度都有明顯差別，NIR光譜具有豐富的結(jié)構(gòu)和組成信息，非常適合用于碳?xì)溆袡C(jī)物質(zhì)的組成與性質(zhì)測量。但在NIR區(qū)域，吸收強(qiáng)度弱，靈敏度相對較低，吸收帶較寬且重疊嚴(yán)重?！ ∫虼?，依靠傳統(tǒng)的建立工作曲線方法進(jìn)行定量分析是十分困難的，化學(xué)計(jì)量學(xué)的發(fā)展為這一問題的解決奠定了數(shù)學(xué)基礎(chǔ)。其工作原理是，如果樣品的組成相同，則其光譜也相同，反之亦然。如果我們建立了光譜與待測參數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系（稱為分析模型），那么，只要測得樣品的光譜，通過光譜和上述對應(yīng)關(guān)系，就能很快得到所需要的質(zhì)量參數(shù)數(shù)據(jù)。分析方法包括校正和預(yù)測兩個(gè)過程： ?。?）在校正過程中，收集一定量有代表性的樣品（一般需要80個(gè)樣品以上），在測量其光譜圖的同時(shí)，根據(jù)需要使用有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)分析方法進(jìn)行測量，得到樣品的各種質(zhì)量參數(shù)，稱之為參考數(shù)據(jù)。通過化學(xué)計(jì)量學(xué)對光譜進(jìn)行處理，并將其與參考數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)，這樣在光譜圖和其參考數(shù)據(jù)之間建立起一一對應(yīng)映射關(guān)系，通常稱之為模型。雖然建立模型所使用的樣本數(shù)目很有限，但通過化學(xué)計(jì)量學(xué)處理得到的模型應(yīng)具有較強(qiáng)的普適性。對于建立模型所使用的校正方法視樣品光譜與待分析的性質(zhì)關(guān)系不同而異，常用的有多元線性回歸，主成分回歸，偏最小二乘，人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和拓?fù)浞椒ǖ??！ ★@然，模型所適用的范圍越寬越好，但是模型的范圍大小與建立模型所使用的校正方法有關(guān)，與待測的性質(zhì)數(shù)據(jù)有關(guān)，還與測量所要求達(dá)到的分析精度范圍有關(guān)。實(shí)際應(yīng)用中，建立模型都是通過化學(xué)計(jì)量學(xué)軟件實(shí)現(xiàn)的，并且有嚴(yán)格的規(guī)范（如ASTM6500標(biāo)準(zhǔn)）。 ?。?）在預(yù)測過程中，首先使用近紅外光譜儀測定待測樣品的光譜圖，通過軟件自動(dòng)對模型庫進(jìn)行檢索，選擇正確模型計(jì)算待測質(zhì)量參數(shù)。
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