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紅外探測(cè)器技術(shù)的發(fā)展 探測(cè)器是如何工作的

時(shí)間:2020-08-04    來(lái)源:儀多多儀器網(wǎng)    作者:儀多多商城     
紅外探測(cè)器技術(shù)的發(fā)展 1、   前言
所有物體均發(fā)射與其溫度和特性相關(guān)的熱輻射,環(huán)境溫度附近物體的熱輻射大多位于紅外波段。紅外輻射占據(jù)相當(dāng)寬的電磁波段(0.8μm~1000μm)??芍t外輻射提供了客觀世界的豐富信息,充分利用這些信息是人們追求的目標(biāo)。
將不可見(jiàn)的紅外輻射轉(zhuǎn)換成可測(cè)量的信號(hào)的器件就是紅外探測(cè)器。探測(cè)器作為紅外整機(jī)系統(tǒng)的核心關(guān)鍵部件,探測(cè)、識(shí)別和分析紅外信息并加以控制。
熱成像是紅外技術(shù)的一個(gè)重要方面,得到了廣泛應(yīng)用,首要的當(dāng)屬軍事應(yīng)用。反之,由于應(yīng)用的驅(qū)使,紅外探測(cè)器的研究、開發(fā)乃至生產(chǎn),越來(lái)越受重視而得以長(zhǎng)足發(fā)展。 1800年Herschel 發(fā)現(xiàn)太陽(yáng)光譜中的紅外線用的涂黑水銀溫度計(jì)為比較早的紅外探測(cè)器,此后,尤其是二次大戰(zhàn)以來(lái),不斷出現(xiàn)新器件。現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的進(jìn)展提供紅外探測(cè)器研制的廣闊天地,高性能新型探測(cè)器層出不窮。今天的探測(cè)器制備已成為涉及物理、材料等基礎(chǔ)科學(xué)和光、機(jī)、微電子和計(jì)算機(jī)等多領(lǐng)域的綜合科學(xué)技術(shù)。 2、物理學(xué)的進(jìn)展是紅外探測(cè)器的基礎(chǔ)
紅外輻射與物質(zhì)(材料)相互作用產(chǎn)生各種效應(yīng)。100多年來(lái),從經(jīng)典物理到20世紀(jì)開創(chuàng)的近代物理,特別是量子力學(xué)、半導(dǎo)體物理等學(xué)科的創(chuàng)立,到現(xiàn)代的介觀物理、低維結(jié)構(gòu)物理等等,有許多而且越來(lái)越多可用于紅外探測(cè)的物理現(xiàn)象和效應(yīng)。
2.1熱探測(cè)器:
熱輻射引起材料溫度變化產(chǎn)生可度量的輸出。有多種熱效應(yīng)可用于紅外探測(cè)器。
(1)熱脹冷縮效應(yīng)的液態(tài)的水銀溫度計(jì)、氣態(tài)的高萊池(Golay cell);
(2)溫差電(Seebeck)效應(yīng)。可做成熱電偶和熱電堆,主要用于測(cè)量?jī)x器。
(3)共振頻率對(duì)溫度的敏感可制作石英共振器非致冷紅外成像陣列。
(4)材料的電阻或介電常數(shù)的熱敏效應(yīng)--輻射引起溫升改變材料電阻用以探測(cè)熱輻射- 測(cè)輻射熱計(jì)(Bolometer):半導(dǎo)體有高的溫度系數(shù)而應(yīng)用較多,常稱 " 熱敏電阻"。利用轉(zhuǎn)變溫度附近電阻巨變的超導(dǎo)探測(cè)器引起重視。如果室溫度超導(dǎo)成為現(xiàn)實(shí),將是21世紀(jì)最引人注目的探測(cè)器。
(5)熱釋電效應(yīng):快速溫度變化使晶體自發(fā)極化強(qiáng)度改變,表面電荷發(fā)生變化,可作成熱釋電探測(cè)器。 熱探測(cè)器一般不需致冷( 超導(dǎo)除外 )而易于使用、維護(hù),可靠性好;光譜響應(yīng)與波長(zhǎng)無(wú)關(guān),為無(wú)選擇性探測(cè)器;制備工藝相對(duì)簡(jiǎn)易,成本較低。但靈敏度低,響應(yīng)速度慢。熱探測(cè)器性能限制的主要因素是熱絕緣的設(shè)計(jì)問(wèn)題。
2.2光電探測(cè)器:
紅外輻射光子在半導(dǎo)體材料中激發(fā)非平衡載流子(電子或空穴),引起電學(xué)性能變化。因?yàn)檩d流子不逸出體外,所以稱內(nèi)光電效應(yīng)。量子光電效應(yīng)靈敏度高,響應(yīng)速度比熱探測(cè)器快得多,是選擇性探測(cè)器。為了達(dá)到較佳性能,一般都需要在低溫下工作。光電探測(cè)器可分為:
(1)光導(dǎo)型:又稱光敏電阻。入射光子激發(fā)均勻半導(dǎo)體中的價(jià)帶電子越過(guò)禁帶進(jìn)入導(dǎo)帶并在價(jià)帶留下空穴,引起電導(dǎo)增加,為本征光電導(dǎo)。從禁帶中的雜質(zhì)能級(jí)也可激發(fā)光生載流子進(jìn)入導(dǎo)帶或價(jià)帶,為雜質(zhì)光電導(dǎo)。截止波長(zhǎng)由雜質(zhì)電離能決定。量子效率低于本征光導(dǎo),而且要求更低的工作溫度。
(2)光伏型:主要是p-n結(jié)的光生伏特效應(yīng)。能量大于禁帶寬度的紅外光子在結(jié)區(qū)及其附近激發(fā)電子空穴對(duì)。存在的結(jié)電場(chǎng)使空穴進(jìn)入p區(qū),電子進(jìn)入 n 區(qū),兩部分出現(xiàn)電位差。外電路就有電壓或電流信號(hào)。與光導(dǎo)探測(cè)器比較,光伏探測(cè)器背影限探測(cè)率大于40%;不需要外加偏置電場(chǎng)和負(fù)載電阻,不消耗功率,有高的阻抗。這些特性給制備和使用焦平面陣列帶來(lái)很大好處。
(3)光發(fā)射-Schottky勢(shì)壘探測(cè)器:金屬和半導(dǎo)體接觸,典型的有PtSi/Si結(jié)構(gòu),形成Schott ky勢(shì)壘,紅外光子透過(guò)Si層為PtSi吸收,電子獲得能量躍上 Fermi能級(jí),留下空穴越過(guò)勢(shì)壘進(jìn)入Si襯底,PtSi層的電子被收集,完成紅外探測(cè)。充分利用Si集成技術(shù),便于制作,具有成本低、均勻性好等優(yōu)勢(shì),可做成大規(guī)模(1024×1024甚至更大)焦平面陣列來(lái)彌補(bǔ)量子效率低的缺陷。有嚴(yán)格的低溫要求。用這類探測(cè)器,國(guó)內(nèi)外已生產(chǎn)出具有像質(zhì)良好的熱像儀。Pt Si/Si結(jié)構(gòu)FPA是比較早制成的IRFPA。
(4)量子阱探測(cè)器(QWIP):將兩種半導(dǎo)體材料A和B用人工方法薄層交替生長(zhǎng)形成超晶格,在其界面,能帶有突變。電子和空穴被限制在低勢(shì)能阱A層內(nèi),能量量子化,稱為量子阱。利用量子阱中能級(jí)電子躍遷原理可以做紅外探測(cè)器。90年代以來(lái)發(fā)展很快,已有512×512、64 0×480規(guī)模的QWIP GaAs/AlGaAs焦平面制成相應(yīng)的熱像儀誕生。因?yàn)槿肷漭椛渲兄挥写怪庇诔Ц裆L(zhǎng)面的電極化矢量起作用,光子利用率低;量子阱中基態(tài)電子濃度受摻雜限制,量子效率不高;響應(yīng)光譜區(qū)窄;低溫要求苛刻。人們正深入研究努力加以改進(jìn),可望與碲鎘汞探測(cè)器一爭(zhēng)高低。
3、新技術(shù)飛速發(fā)展促進(jìn)紅外探測(cè)器更新?lián)Q代
60年代以前多為單元探測(cè)器掃描成像,但靈敏度低,二維掃描系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜笨重。增加探測(cè)元,例如有N元組成的探測(cè)器,靈敏度增加N1/2倍,一個(gè)M×N陣列,靈敏度增長(zhǎng)(M×N)1/2倍。元數(shù)增加還將簡(jiǎn)化光機(jī)掃描機(jī)構(gòu),大規(guī)模凝視焦平面陣列,不再需要光機(jī)掃描,大大簡(jiǎn)化整機(jī)系統(tǒng)?,F(xiàn)代探測(cè)器技術(shù)進(jìn)入第二、第三代,重要標(biāo)志之一就是元數(shù)大大增加。另一方面是開發(fā)同時(shí)覆蓋兩個(gè)波段以上的雙色和多光譜探測(cè)器。所有進(jìn)展都離不開新技術(shù)特別是半導(dǎo)體技術(shù)的開發(fā)和進(jìn)步。幾項(xiàng)具有里程碑意義的技術(shù)有:
(1)半導(dǎo)體精密光刻技術(shù) 使探測(cè)器技術(shù)由單元向多元線列探測(cè)器迅速發(fā)展,即后來(lái)稱為第一代探測(cè)器。
(2)Si集成電路技術(shù) Si讀出電路與光敏元大面陣耦合,誕生了所謂第二代的大規(guī)模紅外焦平面陣列探測(cè)器 。更進(jìn)一步有Z平面和靈巧型智能探測(cè)器等新品種。此項(xiàng)技術(shù)還誘導(dǎo)產(chǎn)生非制冷焦平面陣列 ,使一度冷落的熱探測(cè)器重現(xiàn)勃勃生機(jī)。
(3)先進(jìn)的薄層材料生長(zhǎng)技術(shù) 分子束外延、金屬有機(jī)化學(xué)汽相淀積和液相外延等技術(shù)可重復(fù)、精密控制生長(zhǎng)大面積高度均勻材料,使制備大規(guī)模紅外焦平面陣列成為可能。也是量子阱探測(cè)器出現(xiàn)的前提。
(4)微型制冷技術(shù) 高性能探測(cè)器低溫要求驅(qū)動(dòng)微型制冷機(jī)的開發(fā),制冷技術(shù)又促進(jìn)了探測(cè)器的研制和應(yīng)用。
我國(guó)紅外探測(cè)器研制從1958年開始,至今已40多年。先后研制過(guò)PbS、PbSe、Ge:Au、Ge:Hg 、InSb、PbSnTe、HgCdTe、PtSi/Si、GaAs/AlGaAs量子阱和熱釋電探測(cè)器等。 隨著低維材料出現(xiàn),納米電子學(xué)、光電一體化等技術(shù)日新月異,21世紀(jì)紅外探測(cè)器必有革命性的進(jìn)展。物理學(xué)及材料科學(xué)是現(xiàn)代技術(shù)發(fā)展的主要基礎(chǔ),現(xiàn)代技術(shù)飛速發(fā)展對(duì)物理學(xué)研究 又有巨大的反作用。
4、高性能紅外探測(cè)器-碲鎘汞探測(cè)器
1959年,英國(guó)Lawson等首先制成可變帶隙Hg1-xCdxTe固溶體合金,提供了紅外探測(cè)器設(shè)計(jì)空前的自由度。
碲鎘汞有三大優(yōu)勢(shì):
1)本征激發(fā)、高的吸收系數(shù)和高的量子效率(可超過(guò)80%)且有高的探測(cè)率;
2)其最吸引人的特性是改變Hg、Cd配比調(diào)節(jié)響應(yīng)波段,可以工作在各個(gè)紅外光譜區(qū)段并獲得較佳性能。而且晶格參數(shù)幾乎恒定不變,對(duì)制備復(fù)合禁帶異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)新器件特別重要
3)同樣的響應(yīng)波段,工作溫度較高,可工作的溫度范圍也較寬。
碲鎘汞中,弱Hg-Te鍵(比Cd-Te鍵弱約30%),可通過(guò)熱處理或特定途徑形成P或N型,并可完成轉(zhuǎn)型。其電學(xué)性質(zhì)如1載流子濃度低,2少數(shù)載流子壽命長(zhǎng),3電子空穴有效質(zhì)量比大(~10.0),電子遷移率高,4介電常數(shù)小等有利于探測(cè)器性能。
第一代碲鎘汞探測(cè)器主要是多元光導(dǎo)型,美國(guó)采用60、120和180元光導(dǎo)探測(cè)器作為熱像儀通用組件,英國(guó)則以70年代中期開發(fā)的SPRITE為通用組件。SPRITE是一種三電極光導(dǎo)器件,利用半導(dǎo)體中非平衡載流子掃出效應(yīng),當(dāng)光點(diǎn)掃描速度與載流子雙極漂移速度匹配,使探測(cè)器在完成輻射探測(cè)的同時(shí)實(shí)現(xiàn)信號(hào)的時(shí)間延遲積分功能。8條SPRIET的性能可相當(dāng)100元以上的多元探測(cè)器。結(jié)構(gòu)、制備工藝和后續(xù)電子學(xué)大大簡(jiǎn)化?,F(xiàn)有技術(shù)又克服了高光機(jī)掃描速度和空間分辨率受限制等兩個(gè)缺陷。
1992年誕生了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)化通用組件高性能熱像儀,SPRITE探測(cè)器研制成功是關(guān)鍵。到90年代初,第一代碲鎘汞光導(dǎo)探測(cè)器紛紛完成技術(shù)鑒定,性能達(dá)到世界先進(jìn)水平。
兵器工業(yè)211所的SPRITE、32和60元探測(cè)器已實(shí)用化并投入批量生產(chǎn),規(guī)模和市場(chǎng)不斷擴(kuò)大。國(guó)外在80年代就已大批量生產(chǎn)。由于電極、杜瓦瓶設(shè)計(jì)和制冷機(jī)方面的重重困難,第一代碲鎘汞探測(cè)器元數(shù)一般無(wú)法超過(guò)200。大的碲鎘汞光敏陣列和Si讀出集成電路分別制備并較佳化,然后兩者進(jìn)行電學(xué)耦合和機(jī)械聯(lián)結(jié)形成混合式焦平面陣列,就是第二代碲鎘汞探測(cè)器。
目前國(guó)際上已研制出256×256甚至640×480規(guī)模的長(zhǎng)波IRFPA。中波紅外已有用于天文的1024×1024的規(guī)模,現(xiàn)階段典型產(chǎn)品是法國(guó)的4N系列288×4掃描式FPA。國(guó)內(nèi)仍處于研制開發(fā)階段。晶體碲鎘汞材料也有鮮明的弱勢(shì):
1)相圖液線和固線分離大,分凝引起徑向、縱向組分不均勻;
2)高Hg壓使大直徑晶體生長(zhǎng)困難,晶格結(jié)構(gòu)完整性差;
3)重復(fù)生產(chǎn)成品率低。薄膜材料的困難在于難以獲得理想的CdZnTe襯底材料。
人們致力于研究替代襯底,如PACE(Producible Alternative to CdTe for Epitaxy )- I ( HgCdTe / CdTe/ 寶石),PACE-II(HgCdTe/C dTe/GaAs)和PACE-III(HgCdTe/CdTe/Si)。日本和法國(guó)還報(bào)道Ge襯底,目標(biāo)是與MCT的晶格 匹配并有利于與Si讀出線路的耦合。 優(yōu)質(zhì)碲鎘汞材料制備困難、均勻性差、器件工藝特殊,成品率低,因而成本高一直是困擾碲鎘汞IRFPA的主要障礙。人們始終沒(méi)有放棄尋找材料的努力,但迄今還沒(méi)有一種新材料能超過(guò)碲鎘汞的基本優(yōu)點(diǎn)。為滿足軍事應(yīng)用更高的性能要求,碲鎘汞FPA仍然是探測(cè)器。
5、非致冷焦平面陣列 (UFPA)紅外探測(cè)器
非制冷焦平面陣列省去了昂貴的低溫制冷系統(tǒng)和復(fù)雜的掃描裝置,敏感器件以熱探測(cè)器為主。突破了歷來(lái)熱像儀成本高昂的障礙,"使傳感器領(lǐng)域發(fā)生變革"。另外,它的可靠性也大大提高、維護(hù)簡(jiǎn)單、工作壽命延長(zhǎng),因?yàn)榈蜏刂评湎到y(tǒng)和復(fù)雜掃描裝置常常是紅外系統(tǒng)的故障源。非致冷探測(cè)器的靈敏度(D)比低溫碲鎘汞要小1個(gè)量級(jí)以上,但是以大的焦平面陣列來(lái)彌補(bǔ),便可和第一代MCT探測(cè)器爭(zhēng)雄。對(duì)許多應(yīng)用,特別是監(jiān)視與夜視而言已經(jīng)足夠。廣闊的準(zhǔn)軍事和民用市場(chǎng)更是它施展拳腳的領(lǐng)域。為避免大量投資,把硅集成電路工藝引入低成本、非制冷紅外探測(cè)器開發(fā)生產(chǎn),制造大型高密度陣列和推進(jìn)系統(tǒng)集成化的信號(hào)處理,即大規(guī)模焦平面陣列技術(shù),潛力十分巨大。正因?yàn)槿绱?,單元性能較低的熱電探測(cè)器又重新引人注目,而且可能成為21世紀(jì)具有競(jìng)爭(zhēng)力的探測(cè)器之一。目前發(fā)展較快、前景看好的有兩類UFPA:
(1)熱釋電FPA。熱釋電探測(cè)器的研究早在60年代和70年代就頗為盛行,有過(guò)多種材料,較新型的有鈦酸鍶鋇(BST)陶瓷和鈦酸鈧鉛(PST)等。美國(guó)TI公司推出的328×240鈦酸鍶鋇(BST)FPA已形成產(chǎn)品,NETD優(yōu)于0.1K,有多種應(yīng)用。計(jì)劃中還有640×480的FPA,發(fā)展趨勢(shì)是將鐵電材料薄膜淀積于硅片上,制成單片式熱釋電焦平面,有很高的潛在性能,可望實(shí)現(xiàn)1000×1000陣列的優(yōu)質(zhì)成像。
(2)微測(cè)輻射熱計(jì)(Microbolometer)。它是在IC-CMOS硅片上以淀積技術(shù),用Si3N4支撐有高電阻溫度系數(shù)和高電阻率的熱敏電阻材料Vox或α-Si,做成微橋結(jié)構(gòu)器件(單片式FPA)。接收熱輻射引起溫度變化而改變阻值,直流耦合無(wú)須斬波器,僅需一半導(dǎo)體制冷器保持其穩(wěn)定的工作溫度。90年代初,由Honeywell公司首先開發(fā),研制成工作在8μm~14μm的320×240 UFPA,并以此制成實(shí)用的熱像系統(tǒng),NETD已達(dá)到0.1K以下,可望在近期達(dá)到0.02K。此類FPA90年代發(fā)展神速,成為熱點(diǎn)。與熱釋電UFPA比較,微測(cè)輻射熱計(jì)采用硅集成工藝,制造成本低廉;有好的線性響應(yīng)和高的動(dòng)態(tài)范圍;像元間好的絕緣而有低的串音和圖像模糊;低的1/f噪聲;以及高的幀速和潛在高靈敏度(理論NETD可達(dá)0.01K)。其偏置功率受耗散功率限制和大的噪聲帶寬不足以與熱釋電相比。
6、紅外探測(cè)器技術(shù)的發(fā)展
歷史上,紅外探測(cè)器的發(fā)展得益于戰(zhàn)爭(zhēng)尤其是二次大戰(zhàn)的刺激。隨后的冷戰(zhàn)時(shí)期,到現(xiàn)今的局部戰(zhàn)爭(zhēng),人們不斷加深對(duì)紅外探測(cè)器重要性的認(rèn)識(shí)。至今,軍事應(yīng)用仍占整個(gè)紅外敏感器市場(chǎng)的75%。更高的性能指標(biāo)和降低成本對(duì)紅外技術(shù)提出了愈來(lái)愈高的要求。由于民用需求的急劇增長(zhǎng),軍事應(yīng)用的比例正在穩(wěn)步減小。據(jù)美國(guó)市場(chǎng)調(diào)查,到2002年軍事應(yīng)用將下降到50%以下。今后焦平面紅外圖像系統(tǒng)及傳感器的需求量會(huì)繼續(xù)增長(zhǎng),年增長(zhǎng)率將達(dá)29%。軍事應(yīng)用中的商用成品有望每年增加15%。估計(jì)增長(zhǎng)較快的將是非制冷焦平面系統(tǒng),年增長(zhǎng)率將超過(guò)60%。2002年美國(guó)紅外技術(shù)市場(chǎng)將達(dá)到12億美元。據(jù)中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)預(yù)測(cè),今后 5年,我國(guó)熱像設(shè)備總數(shù)在4萬(wàn)臺(tái)左右,而年自產(chǎn)不足500臺(tái)。所有這些,勢(shì)必使21世紀(jì)的紅外科學(xué)技術(shù)加速開拓前進(jìn),首先是紅外探測(cè)器技術(shù)的突飛猛進(jìn)。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
    可燃?xì)怏w探測(cè)器是我公司生產(chǎn)的新型氣體檢測(cè)儀器,本機(jī)采用高性能催化燃燒氣敏元器件和微控制器技術(shù),結(jié)合精良SMD工藝制造而成,具有良好的重復(fù)性和溫濕度特性、使用壽命長(zhǎng)、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。適應(yīng)于工業(yè)環(huán)境中檢測(cè)氣體濃度。
  可燃?xì)怏w探測(cè)器將空氣中可燃?xì)怏w濃度信號(hào)轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號(hào)顯示,采用三線制4~20mA的電流信號(hào)輸出方式,具有傳輸距離遠(yuǎn)、抗干擾性能好等特點(diǎn)。
  可燃?xì)怏w探測(cè)器適用于煉油廠、化工廠、液化氣站、燃?xì)忮仩t房、加油加氣站、噴漆房等存在可燃?xì)怏w的工業(yè)現(xiàn)場(chǎng),進(jìn)行氣體安全檢測(cè)報(bào)警。

原理

入射粒子使高壓電極和收集電極間的氣體電離,生成的電子離子對(duì)電場(chǎng)的作用下向兩極漂移,在收集電極上產(chǎn)生輸出脈沖,反饋到測(cè)量系統(tǒng)稱為具體的電信號(hào)并顯示在屏幕上。(錯(cuò)。這是氣體核輻射探測(cè)器的原理,不是可燃?xì)怏w探測(cè)器的原理??扇?xì)怏w探測(cè)器的大致原理是用電化學(xué)方式檢測(cè)被測(cè)氣體。而氣體核輻射探測(cè)器是用工作氣體檢測(cè)入射粒子個(gè)數(shù)的計(jì)數(shù)器,像蓋革計(jì)數(shù)器、正比計(jì)數(shù)器之類的東西。)

維修與保養(yǎng)

1.保持探測(cè)器表面清潔,以免堵塞,而影響使用。

2.經(jīng)常檢查探測(cè)器有無(wú)意外進(jìn)水,以免因元件浸水,而影響其性能。

3.嚴(yán)謹(jǐn)用戶和非專業(yè)人員私自拆卸儀器。

4.嚴(yán)謹(jǐn)用大量氣體直沖探測(cè)器,否則影響傳感器壽命。

5.正常工作狀態(tài)下,每年標(biāo)定一次。

6.本儀器保修一年,終生服務(wù)。


得益于來(lái)自人眼桿狀細(xì)胞方面的靈感,聚焦載流子增強(qiáng)傳感器實(shí)現(xiàn)了將大面積高效吸收層與納米探測(cè)機(jī)制相結(jié)合。

紅外光譜通常能提供超出人眼視覺(jué)范圍的觀察能力。紅外探測(cè)器已在許多應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用,特別是在從不同角度觀察物體的較不明顯特征方面,紅外探測(cè)器已經(jīng)成為不可或缺的工具。人們對(duì)紅外探測(cè)技術(shù)的研究從未止步,研究人員始終在嘗試使用更多的材料來(lái)探索不同的紅外探測(cè)方法[1]。紅外探測(cè)技術(shù)方面取得的穩(wěn)步進(jìn)展不斷要求更好、更靈敏的探測(cè)器來(lái)滿足應(yīng)用需求,甚至需要終極的光子傳感器——單光子探測(cè)器。

單光子探測(cè)器(SPD)是一種超低噪聲器件,增強(qiáng)的靈敏度使其能夠探測(cè)到光的最小能量量子——光子。單光子探測(cè)器可以對(duì)單個(gè)光子進(jìn)行探測(cè)和計(jì)數(shù),在許多可獲得的信號(hào)強(qiáng)度僅為幾個(gè)光子能量級(jí)的新興應(yīng)用中,單光子探測(cè)器可以一展身手。利用類似于人眼桿狀細(xì)胞的光探測(cè)機(jī)理,美國(guó)西北大學(xué)和伊利諾斯州大學(xué)的研究小組已經(jīng)開發(fā)出了紅外單光子聚焦載流子增強(qiáng)傳感器(FOCUS)。該裝置有望在生物光子學(xué)、醫(yī)學(xué)影像、非破壞性材料檢查、國(guó)土安全與監(jiān)視、軍事視覺(jué)與導(dǎo)航、量子成像以及加密系統(tǒng)等方面取得廣泛應(yīng)用。

紅外探測(cè)的挑戰(zhàn)

紅外探測(cè)器面臨的最大挑戰(zhàn)在于創(chuàng)建一個(gè)具有足夠高信噪比的裝置。為做到這一點(diǎn),探測(cè)器應(yīng)當(dāng)具有以下特點(diǎn):能夠有效地吸收某一特定波長(zhǎng)的光、噪聲能量應(yīng)當(dāng)?shù)陀谛盘?hào)能量、能夠與具有類似低噪聲特性的讀出電子元件相耦合。對(duì)于紅外單光子探測(cè)器來(lái)講,這些要求更具挑戰(zhàn)性,因?yàn)閱喂庾拥男盘?hào)能量小于1阿焦(1阿焦=10-18焦),將波長(zhǎng)增加到長(zhǎng)波紅外(LWIR)以及遠(yuǎn)紅外(FIR)波段后,單個(gè)光子具有的能量會(huì)更低,這會(huì)引發(fā)更多的問(wèn)題。

此外,如果要在任何波段實(shí)現(xiàn)有效吸收,必須要求吸收層(垂直于光傳輸方向)的寬度與所吸收的特定波長(zhǎng)相當(dāng)。因此,在長(zhǎng)波紅外和遠(yuǎn)紅外波段,器件的尺寸在幾微米到幾十微米的尺度內(nèi)。然而,要想將電子噪聲降到低于光子能量,器件的尺寸要降到納米尺度。由于單光子能量極低并且波長(zhǎng)較長(zhǎng),這使得低噪聲、高效率的長(zhǎng)波紅外單光子探測(cè)器的制作非常困難。

源自人眼桿狀細(xì)胞的靈感

隨著人們對(duì)單光子紅外探測(cè)器的不懈研究,目前已經(jīng)出現(xiàn)了專門的p-i-n探測(cè)器、雪崩光電探測(cè)器(APD)、單電子晶體管探測(cè)器以及超導(dǎo)(邊緣轉(zhuǎn)換)探測(cè)器。在這些探測(cè)器中,雪崩光電探測(cè)器是無(wú)需低溫冷卻的固態(tài)單光子探測(cè)器的。但是,兼容紅外的雪崩光電探測(cè)器面臨許多問(wèn)題,包括由雪崩增益統(tǒng)計(jì)性質(zhì)導(dǎo)致的噪聲增長(zhǎng)、隨機(jī)觸發(fā)的后脈沖、以及在所需的強(qiáng)電場(chǎng)下隧穿造成的暗電流的增長(zhǎng)[2]。因此,雪崩光電探測(cè)器的應(yīng)用僅限于一些同步系統(tǒng),并且這些系統(tǒng)具有特別的猝熄電路,允許在極短的時(shí)間內(nèi)施加高擊穿電壓。

為了克服固態(tài)單光子探測(cè)器所面臨的問(wèn)題,研究小組從本質(zhì)上對(duì)現(xiàn)有的單光子探測(cè)器進(jìn)行了研究。由于具備一種稱為桿狀細(xì)胞的特定光敏細(xì)胞,使人眼具有探測(cè)單光子的能力[3]。桿狀細(xì)胞對(duì)弱光下的灰度視覺(jué)十分敏感,這主要是因?yàn)樗鼈兏缓环N叫做視網(wǎng)膜紫質(zhì)的特殊分子[4]。桿狀細(xì)胞的結(jié)構(gòu)以及視網(wǎng)膜紫質(zhì)在細(xì)胞中的排列能夠提供龐大的吸收體積,進(jìn)而能夠有效地俘獲光子。此外,視網(wǎng)膜紫質(zhì)分子與其他一系列催化劑和信使分子一起,在信號(hào)被神經(jīng)系統(tǒng)的噪聲降質(zhì)之前的放大過(guò)程中,發(fā)揮著重要作用。研究人員試圖復(fù)制這種人類視覺(jué)系統(tǒng)的工作原理,來(lái)實(shí)現(xiàn)有效的單光子探測(cè)。

FOCUS系統(tǒng)開發(fā)

盡管納米尺度特征可以提供諸如超低電容以及量子效應(yīng)等有吸引力的特性,但它們的填充因子較低,從而妨礙了其對(duì)光進(jìn)行有效的吸收。FOCUS傳感器除了具有納米尺度的傳感特征外,還利用較大的吸收體積來(lái)模仿桿狀細(xì)胞的結(jié)構(gòu)進(jìn)行工作(見(jiàn)圖1)。


圖1. 該圖為聚焦載流子增強(qiáng)探測(cè)器(FOCUS)裝置的掃描電子顯微成像以及橫截面圖,顯示了極為靈敏的納米注入?yún)^(qū)以及大面積的厚吸收體積

FOCUS的工作原理是在電子領(lǐng)域復(fù)制人眼桿狀細(xì)胞的工作機(jī)理:當(dāng)施加適當(dāng)偏壓時(shí),F(xiàn)OCUS納米注入?yún)^(qū)內(nèi)的電子在內(nèi)部電場(chǎng)的作用下,將向大面積的吸收區(qū)運(yùn)動(dòng)。然而,在納米注入?yún)^(qū)的末端會(huì)形成勢(shì)壘阻礙電子的這種運(yùn)動(dòng),并且會(huì)擋住大多數(shù)電子。當(dāng)一個(gè)光子入射到大面積的厚吸收區(qū)時(shí),它將以極高概率產(chǎn)生一個(gè)電子-空穴對(duì),空穴在內(nèi)建電場(chǎng)的作用下會(huì)立即被吸引到納米注入?yún)^(qū)。當(dāng)光激發(fā)的空穴到達(dá)納米注入?yún)^(qū)時(shí),將導(dǎo)致勢(shì)壘降低。由于納米勢(shì)壘的電容極低,所以它對(duì)總電荷的任何變化都極為敏感,即便只有一個(gè)額外的空穴,電壓也會(huì)顯著降低。勢(shì)壘的降低將允許更多的電子到達(dá)吸收區(qū),并且隨著電勢(shì)的改變,注入電子的數(shù)量會(huì)呈指數(shù)增長(zhǎng)。因此,如果具有適當(dāng)?shù)膬?nèi)部增益機(jī)理和能帶結(jié)構(gòu),F(xiàn)OCUS在俘獲到一個(gè)單一光子的情況下,就能使注入電流發(fā)生顯著改變。

器件制作與實(shí)驗(yàn)結(jié)果

研究人員采用三維非線性有限元方法(FEM)進(jìn)行數(shù)值模擬,來(lái)設(shè)計(jì)層結(jié)構(gòu)和FOCUS器件架構(gòu),然后,采用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積的方法生長(zhǎng)外延層,利用電子束刻蝕的方法構(gòu)造晶片的納米尺度特征。電子束蒸發(fā)器用于將金屬沉積在這些納米特征上,金屬膜同時(shí)還在接下來(lái)的刻蝕步驟中起到硬質(zhì)掩膜的作用:首先對(duì)特征進(jìn)行反應(yīng)離子刻蝕,然后進(jìn)行濕法刻蝕,最終形成納米注入?yún)^(qū)。納米注入?yún)^(qū)周圍的空白區(qū)充滿鈍化以及平化藥劑(聚酰亞胺或氧化物),以改善表面質(zhì)量和結(jié)構(gòu)完整性。最后的鍍金屬步驟用于制作電子集成所需的金屬電極。

研究人員制作了直徑從100nm到5祄的圓形FOCUS器件并進(jìn)行了測(cè)試。這些器件的目標(biāo)應(yīng)用主要在近紅外波段。在一套定制的準(zhǔn)直系統(tǒng)中,研究人員對(duì)暗電流、光電流、光增益、空間靈敏度、帶寬、瞬態(tài)響應(yīng)以及額外噪聲等參數(shù)進(jìn)行了測(cè)量。被測(cè)FOCUS器件均在低于2V的偏壓下工作。

在暗電流以及光電流測(cè)試中,研究人員使用準(zhǔn)直的連續(xù)波激光器作為光源。測(cè)量結(jié)果表明:FOCUS器件的光學(xué)響應(yīng)得到了顯著提高,同時(shí)暗電流的值與目前先進(jìn)的雪崩光電探測(cè)器相近(見(jiàn)圖2)。在低偏壓條件下,小型FOCUS器件可以獲得超過(guò)4000的穩(wěn)定增益,這比現(xiàn)有的其他單光子探測(cè)器提高了幾個(gè)數(shù)量級(jí)。此外,F(xiàn)OCUS探測(cè)器所必需的偏置電壓要比雪崩光電探測(cè)器所需的偏置電壓(可以高達(dá)50V)低很多。對(duì)于空間靈敏度的測(cè)量,研究人員使用了一套自動(dòng)裝置,測(cè)量結(jié)果顯示:FOCUS探測(cè)器能夠收集到距納米注入?yún)^(qū)6~7祄處的載流子,這一結(jié)果也進(jìn)一步證實(shí)了研究人員之前的理論模擬預(yù)言。


圖2. 電流-電壓特性曲線顯示了直徑為5祄的圓形FOCUS探測(cè)器(在室溫下工作,未冷卻)在不同光照條件下的工作性能

研究人員在不同的加工階段對(duì)FOCUS探測(cè)器的帶寬進(jìn)行了測(cè)試,發(fā)現(xiàn)帶寬對(duì)表面質(zhì)量具有明顯的依賴關(guān)系,這與具有極高表體比的納米器件的預(yù)期相符。非鈍化器件的帶寬可達(dá)到400kHz,而某些特殊鈍化器件的帶寬可超過(guò)300MHz。然而,帶寬的增加通常伴隨著增益的下降,這意味著增益帶寬積為一常數(shù),該值超過(guò)3GHz。雪崩光電探測(cè)器由于載流子在深勢(shì)阱中壽命較長(zhǎng),以及相關(guān)的后脈沖會(huì)導(dǎo)致帶寬受限;與之相比,F(xiàn)OCUS探測(cè)器并沒(méi)有顯示出這種不期望的副作用。
由于不同形式的鈍化之間存在差別,因此可以在增益和帶寬之間進(jìn)行權(quán)衡。與帶寬結(jié)果相關(guān)聯(lián),研究人員還使用超快飛秒脈沖激光器以及光學(xué)衰減器進(jìn)行了瞬態(tài)響應(yīng)測(cè)量。取平均之后,便能區(qū)分出對(duì)應(yīng)于五光子光電效應(yīng)的電脈沖。

研究人員使用定制的非線性FEM模擬程序在近紅外波段對(duì)FOCUS器件進(jìn)行設(shè)計(jì)以及數(shù)值模擬。我們相信:隨著人們對(duì)納米尺度效應(yīng)的進(jìn)一步理解、改進(jìn)相應(yīng)的制作步驟,以及將加工過(guò)程拓展到長(zhǎng)波紅外和遠(yuǎn)紅外波段,F(xiàn)OCUS器件將得到進(jìn)一步改善。

參考文獻(xiàn):
1. A. Rogalski, Progress in Quant. Electronics 27(2-3) 59 (2003).
2. A. Lacaita et al., Applied Optics 35(16) 2986 (1996).
3. F. Rieke and D.A. Baylor, Rev. of Modern Physics 70(3) 1027 (1998).
4. S. Hecht et al., J. Gen. Physiol. 25(6) 819 (1942).

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