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時(shí)間:2020-08-06 來(lái)源:儀多多儀器網(wǎng) 作者:儀多多商城
光譜儀
,又稱分光儀,廣泛為認(rèn)知的為直讀光譜儀。以光電倍增管等光探測(cè)器測(cè)量譜線不同波長(zhǎng)位置強(qiáng)度的裝置。其構(gòu)造由一個(gè)入射狹縫,一個(gè)色散系統(tǒng),一個(gè)成像系統(tǒng)和一個(gè)或多個(gè)出射狹縫組成。以色散元件將輻射源的電磁輻射分離出所需要的波長(zhǎng)或波長(zhǎng)區(qū)域,并在選定的波長(zhǎng)上(或掃描某一波段)進(jìn)行強(qiáng)度測(cè)定。分為單色儀和多色儀兩種。
一臺(tái)典型的
光譜儀
主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分:
1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。
2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄?。該?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
3. 色散元件: 通常采用光柵,使光信號(hào)在空間上按波長(zhǎng)分散成為多條光束。
4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長(zhǎng)。
5. 探測(cè)器陣列:放置于焦平面,用于測(cè)量各波長(zhǎng)像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測(cè)器陣列。
光譜儀
應(yīng)用很廣,在農(nóng)業(yè)、天文、汽車、生物、化學(xué)、鍍膜、色度計(jì)量、環(huán)境檢測(cè)、薄膜工業(yè)、食品、印刷、造紙、喇曼光譜、半導(dǎo)體工業(yè)、成分檢測(cè)、顏色混合及匹配、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用、熒光測(cè)量、寶石成分檢測(cè)、氧濃度傳感器、真空室鍍膜過(guò)程監(jiān)控、薄膜厚度測(cè)量、LED測(cè)量、發(fā)射光譜測(cè)量、紫外/可見吸收光譜測(cè)量、顏色測(cè)量等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
X射線光譜儀(rohs檢測(cè)儀)通常可分為兩大類,波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀(WDXRF)和能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF),波長(zhǎng)色散光譜儀主要部件包括激發(fā)源、分光晶體和測(cè)角儀、探測(cè)器等,而能量色散光譜儀則只需激發(fā)源和探測(cè)器和相關(guān)電子與控制部件,相對(duì)簡(jiǎn)單。
波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀使用分析晶體分辨待測(cè)元素的分析譜線,根據(jù)Bragg定律,通過(guò)測(cè)定角度,即可獲得待測(cè)元素的譜線波長(zhǎng):
nλ=2dsinaθ (n=1,2,3…)
式中 ,λ為分析譜線波長(zhǎng);d為晶體的晶格間距;θ為衍射角;n為衍射級(jí)次。利用測(cè)角儀可以測(cè)得分析譜線的衍射角,利用上式可以計(jì)算相應(yīng)被分析元素的波長(zhǎng),從而獲得待測(cè)元素的特征信息。
能量色散射線熒光光譜儀則采用能量探測(cè)器,通過(guò)測(cè)定由探測(cè)器收集到的電荷量,直接獲得被測(cè)元素發(fā)出的特征射線能量:
Q=kE
式中,K為入射射線的光子能量;Q為探測(cè)器產(chǎn)生的相應(yīng)電荷量;k為不同類型能量探測(cè)器的響應(yīng)參數(shù)。電荷量與入射射線能量成正比,故通過(guò)測(cè)定電荷量可得到待測(cè)元素的特征信息。
待測(cè)元素的特征譜線需要采用一定的激發(fā)源才能獲得。目前常規(guī)采用的激發(fā)源主要有射線光管和同位素激發(fā)源等。
為獲得樣品的定性和定量信息,除光譜儀外,還必須采用一定的樣品制備技術(shù),并對(duì)獲得的強(qiáng)度進(jìn)行相關(guān)的譜分析和數(shù)據(jù)處理
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