氧化鋯分析儀主要應(yīng)用于:石油化工行業(yè)中乙烯及芳烴制取、加氫裂化過程、惰性氣體反應(yīng)爐或容器、氬氣或氮氣純化、鍋爐或者焚燒爐等的燃燒控制、氣體廠的氣瓶填充和罐裝、艦用惰性氣體發(fā)生器、啤酒行業(yè)的二氧化碳純度檢測、熱處理工業(yè)爐等。那么其探頭（檢測器）的安裝需要具備哪些條件，安裝位置如何選擇，爐壁護(hù)套管又如何預(yù)埋呢？下面我們就簡單聊一聊。
首先：是氧化鋯分析儀探頭的安裝需要具備哪些條件？
其次：取樣點的位置如何選擇？
最后：氧化鋯分析儀探頭爐壁護(hù)套管的加工和預(yù)埋。
預(yù)先加工好帶法蘭的設(shè)備短接管，孔徑為Φ76，長度約為400mm。按要求選好取樣位置(爐壁或管道)，開一個Φ76 的孔，將短接水平焊接到爐壁上，焊接時要保證焊接處不漏氣。把檢測器插入短接管中，接管法蘭與檢測器法蘭之間墊上2—4mm 厚的石棉墊，旋緊4 個螺栓，使其不漏氣即可。
※注意: 新建爐膛或煙道要等幾次烘爐干燥后再安裝氧探頭，否則，過于潮濕的煙氣可能降低新探頭使用壽命。
由于氧化鋯分析儀探頭的參比氣是靠空氣自然對流提供的,探頭必須水平安裝, 參比氣和標(biāo)準(zhǔn)氣接口相應(yīng)朝下.探頭端部防護(hù)套管的缺口位置(可調(diào)整方向)也應(yīng)垂直向下,以防積灰.
紅外線氣體分析儀特點概要紅外線氣體分析儀，是利用紅外線進(jìn)行氣體分析。它基于待分析組分的濃度不同，吸收的輻射能不同．剩下的輻射能使得檢測器里的溫度升高不同，動片薄膜兩邊所受的壓力不同，從而產(chǎn)生一個電容檢測器的電信號。這樣，就可間接測量出待分析組分的濃度。
比爾定律
紅外線氣體分析儀是根據(jù)比爾定律制成的。假定被測氣體為一個無限薄的平面．強(qiáng)度為k的紅外線垂直穿透它，則能量衰減的量為：I=I0e-KCL(比爾定律)
式中：I--被介質(zhì)吸收的輻射強(qiáng)度；
I0--紅外線通過介質(zhì)前的輻射強(qiáng)度；
K--待分析組分對輻射波段的吸收系數(shù)；
C--待分析組分的氣體濃度；
L--氣室長度(赦測氣體層的厚度)
對于一臺制造好了的紅外線氣體分析儀，其測量組分已定，即待分析組分對輻射波段的吸收系數(shù)k一定；紅外光源已定，即紅外線通過介質(zhì)前的輻射強(qiáng)度I0一定；氣室長度L一定。從比爾定律可以看出：通過測量輻射能量的衰減I，就可確定待分析組分的濃度C了。
主要特點：
標(biāo)準(zhǔn)19機(jī)箱，能安裝在成套設(shè)備中大屏幕LCD顯示，全中文菜單操作，且有操作提示功能，操作簡單、高效手動/自動零/終點校準(zhǔn)、全數(shù)字化處理，更加準(zhǔn)確穩(wěn)定可靠標(biāo)準(zhǔn)RS232數(shù)字通訊功能，可直接與電腦或DCS連接輸出為同步、隔離的（0/2/4-20）mA及（0/0.5/1-5）V信號可選，默認(rèn)為（4-20）mA和（1-5）V，電流輸出負(fù)載≤400Ω，電壓輸出負(fù)載≥250Ω
適用于化工、水泥、冶金、電廠等不同領(lǐng)域的氣體分析；根據(jù)客戶不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求，如測量范圍、響應(yīng)時間、供電特點等，實現(xiàn)對不同濃度、不同氣體（SO2、NOX、CO2、CO、CH4、N2O等）的高精度連續(xù)檢測和記錄；可為用戶集成系統(tǒng)應(yīng)用方案，如化工過程控制、連續(xù)污染物檢測系統(tǒng)（CEMS）等。
標(biāo)簽: 紅外線氣體分析儀 紅外線氣體分析儀標(biāo)簽： 紅外線氣體分析儀特點概要_紅外線氣體分析儀組合標(biāo)題：
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