1、控制箱總電源打開后真空泵電源開110/220電源開中間開關(guān)開5分鐘后打開真空隔離閥確認(rèn)無(wú)異常后開光源，穩(wěn)定后開MC20電源真空度打50以下可打開高壓。
2、檢查設(shè)備是否正常，光源、高壓、MC20真空指示等是否正常；
3、每次試驗(yàn)前清理入射窗，調(diào)整電極間隙，清理樣品臺(tái)內(nèi)部殘?jiān)?br/> 4、磨制試樣和標(biāo)準(zhǔn)試樣，注意分析面要平整而有一定的粗糙度；
5、磨削合金鋼和普通碳素鋼試樣應(yīng)使用各自專用的砂輪片；
6、試樣磨削后，放在有蓋的容器中，禁止用手觸摸或擦拭分析表面，禁止長(zhǎng)期暴露在空氣中；
7、打開汞燈電源，穩(wěn)定一段時(shí)間后，進(jìn)行狹縫校準(zhǔn)；
8、打開氬氣減壓器，調(diào)節(jié)出口壓力；
9、每天第一次試驗(yàn)時(shí)應(yīng)將管道內(nèi)殘余氣體放盡；
10、用一塊相關(guān)試樣進(jìn)行多次激發(fā)，直到各元素(特別是硫、磷)讀數(shù)逐漸穩(wěn)定；
11、進(jìn)行同常標(biāo)準(zhǔn)化；
12、用控樣檢查分析數(shù)據(jù)是否正確，如誤差較大，應(yīng)重新標(biāo)準(zhǔn)化；
13、若兩次標(biāo)準(zhǔn)化后仍無(wú)法達(dá)到要求的精度，則應(yīng)停止試驗(yàn)，立即報(bào)告主管領(lǐng)導(dǎo)和設(shè)備員；
14、標(biāo)準(zhǔn)化正確后，即可分析試樣，每個(gè)試樣應(yīng)激發(fā)三次以上，舍去不良數(shù)據(jù)后，以平均值作為分析結(jié)果；
直讀光譜儀是光和電結(jié)合的精密儀器，正確地使用和維護(hù)保養(yǎng)是機(jī)器正常運(yùn)行，延長(zhǎng)使用壽命，保持高性能和高指標(biāo)的關(guān)鍵。一定要按照儀器說明書來(lái)全面理解，從原理到實(shí)際操作、測(cè)試等整個(gè)過程。既要反對(duì)神秘化，又要反對(duì)盲目亂動(dòng)。要把勁用在認(rèn)識(shí)儀器中的光學(xué)，機(jī)械、電子(包括計(jì)算機(jī))等三個(gè)方面，使我們長(zhǎng)知識(shí)，長(zhǎng)才干，就能夠受益較深，用理論指導(dǎo)實(shí)際操作。如果對(duì)儀器的性能沒有消化就盲動(dòng)，不但可能造成破壞性的損壞，即使一個(gè)另部件稍微動(dòng)一點(diǎn)，有時(shí)查不出來(lái)，就會(huì)影響使用，影響分析時(shí)間，即使查出后也須要校驗(yàn)工作跟上去。
儀器維護(hù)要做到三防一恒。即防震，防塵，防潮，儀器要保持恒溫。這個(gè)條件必須在設(shè)計(jì)試驗(yàn)室需要考慮的。
要使儀器的測(cè)試結(jié)果保持高的靈敏度(檢出限低)和高精度。(因檢出限是背景/噪聲)的標(biāo)準(zhǔn)偏差或二倍標(biāo)準(zhǔn)偏差或三倍標(biāo)準(zhǔn)偏差來(lái)衡量(國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定為三倍標(biāo)準(zhǔn)偏差)。可見噪聲大檢出限就低下。因此整個(gè)系統(tǒng)的信噪比要高，要穩(wěn)定(指重現(xiàn)性要好)，就需要從光源、分光器到測(cè)控系統(tǒng)做起。如果放置儀器的房間離震源較近或受到碰撞，整個(gè)系統(tǒng)的同軸性及其相對(duì)位置就要遭到破壞。嚴(yán)重時(shí)要測(cè)的信號(hào)測(cè)不到或測(cè)到信號(hào)很弱，雜散光卻增加了。由于溫度的變化使儀器的內(nèi)部件、元件的溫度系數(shù)產(chǎn)生變化。由于儀器另部件、元件的溫度系數(shù)隨溫度變化的大小不同，導(dǎo)致各部件的相對(duì)位置產(chǎn)生變化。由于溫度的變化引起儀器內(nèi)部光學(xué)元件折射率；色散元件的折射率，光柵常數(shù)的變化，造成光柵色散率的變化。導(dǎo)致光譜線(入射狹逢的像)，偏離出射狹縫的中心位置，影響光譜線的清晰度或強(qiáng)度。
從光源發(fā)出的光，經(jīng)分光器到探測(cè)器窗口經(jīng)過的光學(xué)有效空間，透射面，反射面都會(huì)受到灰塵，手印，潮氣，油污，霉斑等的污染。使信號(hào)因吸收，反射，散射損失而減弱。有的變得使背景增大，增加了噪聲水平。
電學(xué)元件(尤其是高壓高頻元件)，也會(huì)因灰塵，潮濕，油污，溫度過度，使介質(zhì)損耗增大，絕緣降低，暗電流增大，重者擊穿，損壞，漏電。輕者也會(huì)使儀器的穩(wěn)定性變壞，增大熱噪聲電子，使信噪比降低。
一般常見的光學(xué)元件如水晶的，鉛膜，銀膜等反射鏡，光柵反射面上經(jīng)過一段時(shí)間以后，反射率和透過率都有一定的降低。長(zhǎng)期放置在大氣中會(huì)產(chǎn)生這種現(xiàn)象。嚴(yán)重的會(huì)產(chǎn)生霉斑。就是因?yàn)槊咕纳L(zhǎng)發(fā)育溫度在10℃-40℃之間，大于70%的濕度和塵埃(塵埃本身就是有機(jī)物和霉菌)，儀器內(nèi)部引入的有機(jī)墊片，涂料，有機(jī)油類，粘合劑等都是霉菌生長(zhǎng)發(fā)育繁殖的營(yíng)養(yǎng)。
霉菌對(duì)光學(xué)儀器的危害是非常嚴(yán)重的，它使光的透過率、反射率、光導(dǎo)、象質(zhì)大大降低。所以光電直讀光譜儀盡量選擇內(nèi)控溫度的儀器；一般要求室內(nèi)控制溫度在23℃左右。儀器應(yīng)放置在不受陽(yáng)光直照的且具有防震，少塵，干燥，溫度變化小，遠(yuǎn)離腐蝕性氣氛的房間內(nèi)。
直讀光譜儀，英文名為OES（Optical Emission Spectrometer），即原子發(fā)射光譜儀。二戰(zhàn)后，由于歐洲重建，市場(chǎng)對(duì)鋼鐵檢測(cè)有巨大的需求，也促進(jìn)了相關(guān)檢測(cè)儀器的發(fā)展。
目前常用的光源有以下兩種：一類是經(jīng)典光源包括電弧及火花光源，其中以高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預(yù)火花光源在冶金分析中得到廣泛應(yīng)用，一類是等離子體光源居多，在不同領(lǐng)域中得到普遍采用。
光譜分析常用光源有以下幾種放電方式：
1. 高能預(yù)火花放電最大電流可達(dá)150安和燃燒時(shí)間為150微秒，這樣使試樣中燃燒斑點(diǎn)內(nèi)的組織結(jié)構(gòu)更加均勻，由此來(lái)消除元素之間干擾及元素之間結(jié)合等效應(yīng)。
2.火花型放電對(duì)大多數(shù)元素重現(xiàn)性好。
3. 電弧型放電重現(xiàn)性要比火花放電差2—3倍，但對(duì)痕量元素檢出限要低得多。
因此在選擇光源時(shí)應(yīng)盡量滿足以下要求：
1.高靈敏度，隨著樣品中元素濃度微小變化，其檢出的信號(hào)有較大的變化；
2.低檢出限，能對(duì)微量及痕量成分進(jìn)行檢驗(yàn)；
3.良好的穩(wěn)定性，試樣能穩(wěn)定的蒸發(fā)、原子化和激發(fā)，使結(jié)果具有較高的精密度：
4.譜線強(qiáng)度與背景強(qiáng)度之比大(信噪比大)；
5. 分析速度快，預(yù)燃時(shí)間短；
6.構(gòu)造簡(jiǎn)單，容易操作，安全；
7.自吸收效應(yīng)小，校準(zhǔn)曲線的線性范圍寬。
光源激發(fā)條件的選擇，要根據(jù)分析對(duì)象經(jīng)過試驗(yàn)來(lái)決定。 對(duì)于不同的試樣在不同的光源下其預(yù)燃時(shí)間是不一樣的，這主要取決于試樣在火花放電時(shí)的蒸發(fā)過程，它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關(guān)以外，還與試樣組成、結(jié)構(gòu)狀態(tài)、夾雜物種類、大小等等密切有關(guān)。
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